Prensip kouch vakyòm

Kouch vakyòm refere a chofaj ak evaporasyon sous la evaporasyon nan vakyòm oswa sputtering ak bonbadman iyon akselere, epi depoze li sou sifas la nan substra a fòme yon fim sèl-kouch oswa milti-kouch.Ki sa ki prensip la nan kouch vakyòm?Apre sa, editè a nan RSM pral prezante li ba nou.

　　1. Kouch evaporasyon vakyòm

Kouch evaporasyon mande pou distans ki genyen ant molekil vapè oswa atòm ki soti nan sous evaporasyon an ak substra yo dwe kouvwi ta dwe mwens pase chemen an mwayèn gratis nan molekil gaz rezidyèl yo nan chanm nan kouch, konsa tankou asire ke molekil yo vapè nan la. evaporasyon ka rive nan sifas substra a san kolizyon.Asire ke fim nan pi ak fèm, epi evaporasyon an pa pral oksidasyon.

　　2. Vacuum sputtering kouch

Nan vakyòm, lè iyon akselere yo fè kolizyon ak solid la, sou yon bò, kristal la domaje, nan lòt men an, yo fè kolizyon ak atòm ki fòme kristal la, epi finalman atòm yo oswa molekil sou sifas solid la. krache deyò.Se materyèl la sputtered plake sou substra a yo fòme yon fim mens, ki rele plating sputter vakyòm.Gen anpil metòd sputtering, nan mitan ki dyòd sputtering se youn nan pi bonè.Dapre diferan objektif katod, li ka divize an dirèk aktyèl (DC) ak segondè frekans (RF).Kantite atòm sputtered lè yo afekte sifas sib la ak yon ion yo rele pousantaj sputtering.Avèk gwo pousantaj sputtering, vitès fòmasyon fim rapid.Pousantaj sputtering an gen rapò ak enèji ak kalite iyon ak kalite materyèl sib la.Anjeneral pale, pousantaj sputtering ogmante ak ogmantasyon nan enèji ion imen, ak pousantaj sputtering metal presye pi wo.